کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10673071 | 1010196 | 2010 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Hybrid polishing mechanism of single crystal SiC using mixed abrasive slurry (MAS)
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی صنعتی و تولید
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Hybrid polishing mechanism of single crystal SiC using mixed abrasive slurry (MAS) Hybrid polishing mechanism of single crystal SiC using mixed abrasive slurry (MAS)](/preview/png/10673071.png)
چکیده انگلیسی
Single crystal SiC is a mechanically hard and chemically inert material used in optical and power devices. This work proposes the development of a hybrid polishing technique using a mixed abrasive slurry (MAS) with colloidal silica and nano-diamond. Hybrid removal mechanism of the MAS on the SiC is investigated by polishing results, chemical analyses and AFM studies. Each role of two abrasives is distinguished by scratching tests with AFM contact mode on the chemically reacted SiC surface. Finally, this paper provides an optimum MAS condition to realize highly efficient material removal rate (MRR) keeping defect-free surface.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: CIRP Annals - Volume 59, Issue 1, 2010, Pages 333-336
Journal: CIRP Annals - Volume 59, Issue 1, 2010, Pages 333-336
نویسندگان
H.S. Lee, D.I. Kim, J.H. An, H.J. Lee, K.H. Kim, H. Jeong,