کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10673075 | 1010196 | 2010 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Magnetic field-assisted finishing for micropore X-ray focusing mirrors fabricated by deep reactive ion etching
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی صنعتی و تولید
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
A magnetic field-assisted finishing process has been studied for high-aspect-ratio ion-etched silicon curvilinear micropore structures, which have potential application as mirrors for satellite-borne X-ray telescopes. The micropore sidewalls act as X-ray focusing mirrors, and lead to reductions in the mass-to-effective-area ratio of 10-1000 times, compared to traditional X-ray telescopes. This paper describes the processing principle for the surface finishing of the sidewalls of micropore structures (10, 20 μm and depth: 300 μm (aspect ratio â 15, 30)), and the feasibility of achieving roughness â¼4 nm rms and improving the X-ray reflectivity of micropore sidewall surface are demonstrated.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: CIRP Annals - Volume 59, Issue 1, 2010, Pages 351-354
Journal: CIRP Annals - Volume 59, Issue 1, 2010, Pages 351-354
نویسندگان
H. Yamaguchi, R.E. Riveros, I. Mitsuishi, U. Takagi, Y. Ezoe, N. Yamasaki, K. Mitsuda, F. Hashimoto,