کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10673172 | 1010222 | 2012 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Dual mode control of the rotational grinding process
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی صنعتی و تولید
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Dual mode control of the rotational grinding process Dual mode control of the rotational grinding process](/preview/png/10673172.png)
چکیده انگلیسی
The rotational grinding process enables the production of substrates to meet the submicron planarity specifications required for micro-fabrication of semiconductor integrated circuits. Improvements in process capability, with respect to both form and finish, have been generally realised by the development of machine tools and systems based on a principle of precise and predictable “position” control. An alternative principle for optimisation is demonstrated here comprising a dual mode control system where a “finishing mode” is based on local normal force control. Test results show significant relative improvements in levels of surface roughness and a reduction in the normal spatial variation.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: CIRP Annals - Volume 61, Issue 1, 2012, Pages 303-306
Journal: CIRP Annals - Volume 61, Issue 1, 2012, Pages 303-306
نویسندگان
E. Ahearne, D. Logan, G. Byrne,