کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10673581 | 1010258 | 2008 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Micro electroforming of high-aspect-ratio metallic microstructures by using a movable mask
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مهندسی صنعتی و تولید
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
A novel micro electroforming process, which targets the cost efficient fabrication of high-aspect-ratio metallic microstructures, is presented in this paper. An insulating mask with patterned features for localizing the deposition region moves periodically along the metal growth direction during electrodeposition instead of the traditional patterned photoresist mask coated on a substrate. The proposed technology offers some unique advantages such as re-using of mask and avoiding removal of photoresist. The current density distribution and metal deposition in the proposed process were studied. Typical high-aspect-ratio metallic microparts in the scale of several hundred microns have been produced.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: CIRP Annals - Volume 57, Issue 1, 2008, Pages 227-230
Journal: CIRP Annals - Volume 57, Issue 1, 2008, Pages 227-230
نویسندگان
D. Zhu, Y.B. Zeng,