کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
10675383 1010657 2005 8 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Radon progeny behavior in diffusion chamber
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد سطوح، پوشش‌ها و فیلم‌ها
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Radon progeny behavior in diffusion chamber
چکیده انگلیسی
The influence of non-uniform deposition of radon progeny on the total sensitivity was investigated for an LR 115 detector in one typical diffusion chamber. The electric charge increases the deposition of radon progeny.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms - Volume 239, Issue 4, October 2005, Pages 399-406
نویسندگان
, ,