کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
11026553 | 1666374 | 2018 | 15 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Cathode sheath processes in a non-sputtering magnetron discharge
ترجمه فارسی عنوان
غلاف کاتد در فرایند تخلیه مغناطیسی غیر اشباع انجام می شود
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
غلاف کاتد، تخلیه مغناطیسی پالس شده، عملکرد اسپری، یون موجب انتشار الکترون می شود،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
چکیده انگلیسی
The properties of cathode sheath in a non-sputtering magnetron discharge are discussed involving the theoretical assumptions based on the classical glow discharge description, and magnetron specific effects. It is shown that in a wide range of experimental conditions (gas pressure p from 1 to 100â¯Pa, discharge current Id from 10 to 1500 A), the trends for principal plasma parameters (electron density n and temperature Te) remain the same. Nevertheless, there is crucial difference in dominant supply of electrons between low pressure and elevated pressure non-sputtering magnetron regimes. Both secondary electron emission at low pressures and thermal ionization at high pressures result in sufficiently high electron source for sustaining dense non-sputtering magnetron plasmas at characteristically low voltage Vd â¼ 80-120â¯V.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 158, December 2018, Pages 191-194
Journal: Vacuum - Volume 158, December 2018, Pages 191-194
نویسندگان
Andrey V. Kaziev,