دانلود رایگان مقاله ISI : لیتوگرافی کوپلیمر بلوک با وزن مولکولی بالا برای نانو ساختار ماسک سخت و نانوساختارهای فوتونی

High molecular weight block copolymer lithography for nanofabrication of hard mask and photonic nanostructures

Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Colloid and Interface Science - Volume 534, 15 January 2019, Pages 420-429

Sozaraj Rasappa, Hanna Hulkkonen, Lars Schulte, Sokol Ndoni, Jarno Reuna, Turkka Salminen, Tapio Niemi,