کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1443253 | 988148 | 2008 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Modeling electrical characteristics of thin-film field-effect transistors
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
بیومتریال
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The thin-film field-effect-transistor model recently developed is applied to devices based on materials that already show current even without a bias present at the gate resulting in so-called normally-on transistors. These fall in three categories: (i) narrow-band-gap semiconductors, where the thermal energy is sufficient to excite carriers across the band-gap, here analyzed for unipolar and ambipolar materials, (ii) doped semiconductors, and (iii) metals. It is shown what the impact is on the IV and transfer curves.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Synthetic Metals - Volume 158, Issue 11, July 2008, Pages 473-478
Journal: Synthetic Metals - Volume 158, Issue 11, July 2008, Pages 473-478
نویسندگان
P. Stallinga, H.L. Gomes,