کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1485947 | 1510551 | 2006 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Atomic layer deposition of TiO2 on mesoporous silica
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سرامیک و کامپوزیت
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Ultra-thin layers of titanium dioxide are conformally grown within the pores of an ordered mesoporous silica, SBA-15, using atomic layer deposition, reducing the pore size from the original value of 67 Å to a final value of 32 Å. Analysis of the nitrogen isotherms indicated a conformal growth process in which both the internal surface area of the mesoporous material and the external surface was coated.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Non-Crystalline Solids - Volume 352, Issues 30–31, 1 September 2006, Pages 3280–3284
Journal: Journal of Non-Crystalline Solids - Volume 352, Issues 30–31, 1 September 2006, Pages 3280–3284
نویسندگان
Shannon Mahurin, Lili Bao, Wenfu Yan, Chengdu Liang, Sheng Dai,