کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
1485947 1510551 2006 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Atomic layer deposition of TiO2 on mesoporous silica
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد سرامیک و کامپوزیت
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Atomic layer deposition of TiO2 on mesoporous silica
چکیده انگلیسی

Ultra-thin layers of titanium dioxide are conformally grown within the pores of an ordered mesoporous silica, SBA-15, using atomic layer deposition, reducing the pore size from the original value of 67 Å to a final value of 32 Å. Analysis of the nitrogen isotherms indicated a conformal growth process in which both the internal surface area of the mesoporous material and the external surface was coated.

ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Non-Crystalline Solids - Volume 352, Issues 30–31, 1 September 2006, Pages 3280–3284
نویسندگان
, , , , ,