کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1494494 | 992911 | 2018 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Er and Cu codoped SiO2 films obtained by sputtering deposition: Enhancement of the rare earth emission at 1.54 μm mediated by metal sensitizers
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سرامیک و کامپوزیت
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠PL properties of Er ion doped silica films are improved after Cu ion incorporation. ⺠1.54 μm Er PL emission increase is due to a Cu-mediated sensitization mechanism. ⺠Er ions can be excited via Cu sensitizers with enhanced excitation cross section.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Optical Materials - Volume 35, Issue 11, September 2013, Pages 2018-2022
Journal: Optical Materials - Volume 35, Issue 11, September 2013, Pages 2018-2022
نویسندگان
E. Trave, E. Cattaruzza, P. Riello,