کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
1498186 1510894 2015 4 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Atomic structure and growth mechanism of T1 precipitate in Al–Cu–Li–Mg–Ag alloy
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد سرامیک و کامپوزیت
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Atomic structure and growth mechanism of T1 precipitate in Al–Cu–Li–Mg–Ag alloy
چکیده انگلیسی

The atomic structure of a 0.94-nm-thick T1 precipitate in an Al–Cu–Li–Mg–Ag alloy is investigated by combining aberration-corrected scanning transmission electron microscopy (STEM) and energy-dispersive X-ray spectroscopy (EDX). Ag segregates at the first layer of the T1 precipitate interface, revealing a significant compositional variation of Ag throughout the interface. Moreover, the T1 precipitate thickened from 0.94 nm with successive stacking of identical 0.94 nm thick layers.

Figure optionsDownload high-quality image (301 K)Download as PowerPoint slide

ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Scripta Materialia - Volume 109, December 2015, Pages 68–71
نویسندگان
, , , , , , ,