کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1498765 | 993277 | 2013 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
The thermal stability of Ni–Mo and Ni–W thin films: Solute segregation and planar faults
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سرامیک و کامپوزیت
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
The microstructure and segregation behaviour of sputter-deposited Ni–Mo and Ni–W films were investigated by transmission electron microscopy and X-ray diffraction using laboratory and synchrotron sources. Whereas half of the Mo content segregated already during deposition, W segregation was kinetically hindered. During thermal loading up to 850 K, segregation of Mo and W could be observed. The microstructure of Ni–W films was found to be much more thermally stable than that of Ni–Mo films.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Scripta Materialia - Volume 69, Issue 1, July 2013, Pages 65–68
Journal: Scripta Materialia - Volume 69, Issue 1, July 2013, Pages 65–68
نویسندگان
S.J.B. Kurz, C. Ensslen, U. Welzel, A. Leineweber, E.J. Mittemeijer,