کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1500680 | 993355 | 2009 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Real-time evolution of electrical properties and structure of indium oxide and indium tin oxide during crystallization
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سرامیک و کامپوزیت
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Indium oxide and tin-doped indium oxide amorphous films grown by pulsed reactive magnetron sputtering were annealed in vacuum. The film structure and properties were studied using in situ X-ray diffraction, spectroscopic ellipsometry, elastic recoil detection analysis and four-point probe measurements. The electrical properties of the indium oxide film change mainly before the onset of crystallization outset. In contrast, the crystallization of tin-doped indium oxide caused a decrease in resistivity due to Sn donor activation with an estimated efficiency of 40%.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Scripta Materialia - Volume 60, Issue 4, February 2009, Pages 199–202
Journal: Scripta Materialia - Volume 60, Issue 4, February 2009, Pages 199–202
نویسندگان
A. Rogozin, M. Vinnichenko, N. Shevchenko, U. Kreissig, A. Kolitsch, W. Möller,