کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1501105 | 993371 | 2009 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Indium tin oxide thin films crystallized at a low temperature using a nanocluster deposition technique
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سرامیک و کامپوزیت
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
The crystallized nanoclusters embedded in indium tin oxide films grown at ∼60 °C without substrate heating and the triangular granular microstructure of these films deposited at 180 °C, support the potential of low-temperature nanocluster deposition. The structural, electrical and optical properties of such films were investigated at temperatures of less than 260 °C. Films approximately 85 ± 5 nm thick exhibited the lowest resistivity (2.1 × 10−3 Ω cm) and a transparency greater than 80%.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Scripta Materialia - Volume 61, Issue 9, November 2009, Pages 867–870
Journal: Scripta Materialia - Volume 61, Issue 9, November 2009, Pages 867–870
نویسندگان
S.V.N. Pammi, Nak-Jin Seong, Soon-Gil Yoon,