کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1502284 | 993414 | 2006 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
“Explosive” crystallisation of amorphous germanium in Ge/Al layer systems; comparison with Si/Al layer systems
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سرامیک و کامپوزیت
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
The crystallisation of amorphous germanium in contact with aluminium was studied in Ge/Al layer systems by employing in situ and ex situ X-ray diffraction methods. Comparing Ge/Al and Si/Al systems, totally different crystallisation behaviours were observed. Amorphous Ge in contact with Al shows an “explosive” crystallisation at temperatures as low as 150 °C, whereas amorphous Si exhibits a gradual crystallisation accompanied by a simultaneous layer exchange between Si and Al layers. The observations have been interpreted on a thermodynamic basis.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Scripta Materialia - Volume 55, Issue 11, December 2006, Pages 987–990
Journal: Scripta Materialia - Volume 55, Issue 11, December 2006, Pages 987–990
نویسندگان
Z.M. Wang, J.Y. Wang, L.P.H. Jeurgens, E.J. Mittemeijer,