کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1502437 | 993420 | 2009 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Evaluation of thermal fatigue damage of 200-nm-thick Au interconnect lines
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سرامیک و کامپوزیت
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Evaluation of thermal fatigue damage of 200-nm-thick Au interconnect lines Evaluation of thermal fatigue damage of 200-nm-thick Au interconnect lines](/preview/png/1502437.png)
چکیده انگلیسی
Thermal fatigue properties of 200-nm-thick Au interconnects with a width of 2 μm were evaluated by applying alternating current. We found that the temperature distribution along the Au interconnect can be described by a simplified one-dimensional equation of heat conduction. The lifetime as a function of thermal cyclic strain range (Δε) for the narrow Au lines follows the conventional Coffin–Manson relationship when Δε ⩽ 0.47%, while the number of cycles to failure extends to an engineering-defined high-cycle fatigue region.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Scripta Materialia - Volume 60, Issue 9, May 2009, Pages 803–806
Journal: Scripta Materialia - Volume 60, Issue 9, May 2009, Pages 803–806
نویسندگان
M. Wang, B. Zhang, G.P. Zhang, C.S. Liu,