کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
1502437 993420 2009 4 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Evaluation of thermal fatigue damage of 200-nm-thick Au interconnect lines
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد سرامیک و کامپوزیت
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Evaluation of thermal fatigue damage of 200-nm-thick Au interconnect lines
چکیده انگلیسی

Thermal fatigue properties of 200-nm-thick Au interconnects with a width of 2 μm were evaluated by applying alternating current. We found that the temperature distribution along the Au interconnect can be described by a simplified one-dimensional equation of heat conduction. The lifetime as a function of thermal cyclic strain range (Δε) for the narrow Au lines follows the conventional Coffin–Manson relationship when Δε ⩽ 0.47%, while the number of cycles to failure extends to an engineering-defined high-cycle fatigue region.

ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Scripta Materialia - Volume 60, Issue 9, May 2009, Pages 803–806
نویسندگان
, , , ,