کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1502760 | 993433 | 2008 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Structures and nanoindentation properties of nanocrystalline and amorphous Ta–W thin films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سرامیک و کامپوزیت
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The microstructures and mechanical properties of Ta–W thin films sputter-deposited at two substrate temperatures, 298 and 773 K, were investigated. Whereas the 298 K sample was crystalline, the 773 K sample had an amorphous structure. Hardness and Young’s modulus of the nanocrystalline Ta–W thin film were determined to be 14.29 and 181.73 GPa, respectively. These values are ∼20 and 10% lower than those measured from the amorphous counterpart.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Scripta Materialia - Volume 58, Issue 3, February 2008, Pages 195–198
Journal: Scripta Materialia - Volume 58, Issue 3, February 2008, Pages 195–198
نویسندگان
C.L. Wang, M. Zhang, J.P. Chu, T.G. Nieh,