کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1503536 | 993482 | 2007 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Contribution of triple junctions to the diffusion anomaly in nanocrystalline materials
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سرامیک و کامپوزیت
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Contribution of triple junctions to the diffusion anomaly in nanocrystalline materials Contribution of triple junctions to the diffusion anomaly in nanocrystalline materials](/preview/png/1503536.png)
چکیده انگلیسی
Diffusion in nanocrystalline materials is often greatly enhanced even beyond what is expected from a high density of equilibrated grain boundaries. We propose that this ‘anomalous diffusion’ may in many cases be due to short-circuit diffusion along triple junctions. Quantitative analysis shows that triple junction diffusion can reasonably explain anomalies of several orders of magnitude. Therefore, previous suggestions of non-equilibrium grain boundary structures in nanocrystalline materials may not be required to rationalize the anomaly in every case.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Scripta Materialia - Volume 57, Issue 3, August 2007, Pages 253–256
Journal: Scripta Materialia - Volume 57, Issue 3, August 2007, Pages 253–256
نویسندگان
Ying Chen, Christopher A. Schuh,