کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1524126 | 1511824 | 2012 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Spectroscopic evidence of NOx formation and band-gap narrowing in N-doped TiO2 films grown by pulsed magnetron sputtering
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠Highly-doped TiO2:N films have been grown by reactive pulsed magnetron sputtering. ⺠The electronic structure has been assessed by XANES and high-resolution XPS. ⺠N incorporation favors the formation of anatase structures and narrows the band-gap. ⺠The spectroscopic data evidence the role of N interstitials in the form of NOx complexes.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Chemistry and Physics - Volume 136, Issues 2â3, 15 October 2012, Pages 729-736
Journal: Materials Chemistry and Physics - Volume 136, Issues 2â3, 15 October 2012, Pages 729-736
نویسندگان
R. Gago, A. Redondo-Cubero, M. Vinnichenko, J. Lehmann, F. Munnik, F.J. Palomares,