کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1529213 | 995742 | 2012 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
III-Vs on Si for photonic applications-A monolithic approach
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠Monolithic evanescently coupled silicon laser (MECSL) structure treated. ⺠Optical mode profiles and thermal resistivity of MECSL optimized by simulation. ⺠MECSL through epitaxial lateral overgrowth (ELOG) of InP on Si exemplified. ⺠Passive waveguide in MECSL also acts as the defect filtering mask in ELOG. ⺠Growth of dislocation free thin InP layer on Si by ELOG for MECSL demonstrated.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Science and Engineering: B - Volume 177, Issue 17, 1 October 2012, Pages 1551-1557
Journal: Materials Science and Engineering: B - Volume 177, Issue 17, 1 October 2012, Pages 1551-1557
نویسندگان
Zhechao Wang, Carl Junesand, Wondwosen Metaferia, Chen Hu, Lech Wosinski, Sebastian Lourdudoss,