کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
1529213 995742 2012 7 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
III-Vs on Si for photonic applications-A monolithic approach
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
III-Vs on Si for photonic applications-A monolithic approach
چکیده انگلیسی
► Monolithic evanescently coupled silicon laser (MECSL) structure treated. ► Optical mode profiles and thermal resistivity of MECSL optimized by simulation. ► MECSL through epitaxial lateral overgrowth (ELOG) of InP on Si exemplified. ► Passive waveguide in MECSL also acts as the defect filtering mask in ELOG. ► Growth of dislocation free thin InP layer on Si by ELOG for MECSL demonstrated.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Science and Engineering: B - Volume 177, Issue 17, 1 October 2012, Pages 1551-1557
نویسندگان
, , , , , ,