کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1531135 | 1512006 | 2008 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Ln3+:KLu(WO4)2/KLu(WO4)2 epitaxial layers: Crystal growth and physical characterisation
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Monoclinic epitaxial layers of single doped KLu1−xLnx(WO4)2 (Ln3+ = Yb3+ and Tm3+) have been grown on optically passive KLuW substrates by liquid phase epitaxy (LPE) technique using K2W2O7 as solvent. The ytterbium content in the layer is in the range of 0.05 < x < 0.75 atomic substitution and the studied thulium concentrations are 0.05 < x < 0.10. The grown epitaxies are free of macroscopic defects and only in highly ytterbium-doped epilayers do some cracks or inclusions appear. The refractive indices of the epilayers were determined. The absorption and emission cross sections of ytterbium and thulium in KLuW are characterised and laser generation results are presented and discussed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Science and Engineering: B - Volume 146, Issues 1–3, 15 January 2008, Pages 59–65
Journal: Materials Science and Engineering: B - Volume 146, Issues 1–3, 15 January 2008, Pages 59–65
نویسندگان
O. Silvestre, M.C. Pujol, R. Solé, W. Bolaños, J.J. Carvajal, J. Massons, M. Aguiló, F. Diaz,