کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1551908 | 998154 | 2008 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Microcrystalline silicon grown by VHF PECVD and the fabrication of solar cells
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی انرژی
انرژی های تجدید پذیر، توسعه پایدار و محیط زیست
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Microcrystalline silicon grown by VHF PECVD and the fabrication of solar cells Microcrystalline silicon grown by VHF PECVD and the fabrication of solar cells](/preview/png/1551908.png)
چکیده انگلیسی
Intrinsic microcrystalline silicon has been deposited by very high frequency plasma enhanced chemical vapor deposition technique at frequency of 75 MHz. Different gas mixtures of silane and hydrogen were utilized, and the evolution of microstructure and phase in film were studied, while keeping the substrate temperature at 200 °C and the chamber pressure at 0.5 Torr. Optimised material was inserted in p–i–n solar cells: preliminary efficiency of 5.5% was reached for 1 μm-thick solar cells with the Voc around 0.6 V.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solar Energy - Volume 82, Issue 11, November 2008, Pages 1083–1087
Journal: Solar Energy - Volume 82, Issue 11, November 2008, Pages 1083–1087
نویسندگان
Yongsheng Chen, Jianhua Wang, Jingxiao Lu, Wen Zheng, Jinhua Gu, Shi-e Yang, Xiaoyong Gao,