کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1559751 | 1513889 | 2016 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Insight on the oxidation resistance of UOxNy layers: A density functional study
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
سایر رشته های مهندسی
مکانیک محاسباتی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Insight on the oxidation resistance of UOxNy layers: A density functional study Insight on the oxidation resistance of UOxNy layers: A density functional study](/preview/png/1559751.png)
چکیده انگلیسی
O atom prefer to occupying N vacancy in CaF2 type UN2, forming a series of U-N-O ternary compounds, which is related with the oxidation resistance of UNxOy layer.254
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Computational Materials Science - Volume 123, October 2016, Pages 224-231
Journal: Computational Materials Science - Volume 123, October 2016, Pages 224-231
نویسندگان
Xin Wang, Zhong Long, He Huang, Ren Bin, Yin Hu, Lizhu Luo, Ke-Zhao Liu, Peng-Cheng Zhang,