کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
157384 | 456970 | 2010 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Diffusion mechanisms on amorphous silicon surfaces
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
مهندسی شیمی (عمومی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Diffusion mechanisms on amorphous silicon surfaces Diffusion mechanisms on amorphous silicon surfaces](/preview/png/157384.png)
چکیده انگلیسی
Molecular dynamics simulations reveal a new picture for diffusion dynamics on the surface of amorphous silicon. The primary transport mechanism differs substantially from that observed on crystalline surfaces, in which small numbers of highly mobile adatoms or vacancies form and subsequently diffuse over substantial distances. Instead, diffusion takes place via large numbers of single atoms or dimers that move roughly one atomic diameter and are associated with highly strained rings having four atoms.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Chemical Engineering Science - Volume 65, Issue 6, 15 March 2010, Pages 2172–2176
Journal: Chemical Engineering Science - Volume 65, Issue 6, 15 March 2010, Pages 2172–2176
نویسندگان
Andrew S. Dalton, Yevgeniy V. Kondratenko, Edmund G. Seebauer,