کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1582487 | 1514875 | 2008 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Properties of sputter-deposited Ni-Mn-Ga thin films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
دانش مواد (عمومی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Sub-micrometer Ni-Mn-Ga films on MgO(0Â 0Â 1) single-crystalline wafers have been prepared by radio-frequency magnetron sputtering. The structural and magnetic states of the as-received (quasi-amorphous phase) and annealed (highly ordered martensitic phase at TÂ =Â 300Â K) films have been examined by X-ray diffraction, and measurements of resistivity and magnetization. The annealed films demonstrate a transformation behavior typical for the bulk and show a thickness dependence of the magnetic properties.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials Science and Engineering: A - Volumes 481â482, 25 May 2008, Pages 271-274
Journal: Materials Science and Engineering: A - Volumes 481â482, 25 May 2008, Pages 271-274
نویسندگان
V.A. Chernenko, S. Besseghini, M. Hagler, P. Müllner, M. Ohtsuka, F. Stortiero,