کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
1593718 1002713 2011 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Nonlocal analysis to study of the impact ionization and avalanche characteristics of deep submicron Si devices
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد دانش مواد (عمومی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Nonlocal analysis to study of the impact ionization and avalanche characteristics of deep submicron Si devices
چکیده انگلیسی
► Analytic model which includes the effects nonequilibrium transport of carriers (NETC). ► NETC significantly speeds up the avalanche process. ► NETC appreciably increases the speed of ultra-narrow high field devices (UNHFD). ► NETC overcompensate the slowing effects of carrier's dead space in the UNHFD. ► NETC offers additional speed improvements over those expected merely from scaling.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solid State Communications - Volume 151, Issue 8, April 2011, Pages 610-614
نویسندگان
,