کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1593718 | 1002713 | 2011 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Nonlocal analysis to study of the impact ionization and avalanche characteristics of deep submicron Si devices
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
دانش مواد (عمومی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠Analytic model which includes the effects nonequilibrium transport of carriers (NETC). ⺠NETC significantly speeds up the avalanche process. ⺠NETC appreciably increases the speed of ultra-narrow high field devices (UNHFD). ⺠NETC overcompensate the slowing effects of carrier's dead space in the UNHFD. ⺠NETC offers additional speed improvements over those expected merely from scaling.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solid State Communications - Volume 151, Issue 8, April 2011, Pages 610-614
Journal: Solid State Communications - Volume 151, Issue 8, April 2011, Pages 610-614
نویسندگان
Saeid Masudy-Panah,