کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1593993 | 1515652 | 2010 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Dislocation-induced composition profile in alloy semiconductors
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
دانش مواد (عمومی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
We present a novel computational method by combining the finite element method and the method of moving asymptotes to study the dislocation-induced composition profile in alloy semiconductors. Segregated cylindrical nanoscale regions appear around the dislocation core. We find that the dominant driving force of non-uniform composition is strain contribution. Moreover, the method can be applied to the dislocated nanoscale heterostructures which are inaccessible by atomic treatment.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Solid State Communications - Volume 150, Issues 29–30, August 2010, Pages 1275–1278
Journal: Solid State Communications - Volume 150, Issues 29–30, August 2010, Pages 1275–1278
نویسندگان
H. Ye, P.F. Lu, Z.Y. Yu, D.L. Wang, Z.H. Chen, Y.M. Liu, S.M. Wang,