کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
160847 | 457101 | 2006 | 12 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Numerical analysis on particle coating by the pulsed plasma process
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
مهندسی شیمی (عمومی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Numerical analysis on particle coating by the pulsed plasma process Numerical analysis on particle coating by the pulsed plasma process](/preview/png/160847.png)
چکیده انگلیسی
The pulsed plasma process can efficiently reduce the growth of polymerized negative ions and particles, both of which are not good for high-quality thin films. We showed that the high-quality thin films on the particles can be prepared successfully by deposition of low mass chemical precursors by pulsed plasma processes.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Chemical Engineering Science - Volume 61, Issue 10, May 2006, Pages 3278-3289
Journal: Chemical Engineering Science - Volume 61, Issue 10, May 2006, Pages 3278-3289
نویسندگان
Kyo-Seon Kim, Dong-Joo Kim, Qian Qiu Zhao,