![این مقاله در پایگاه ساینس دایرکت منتشر شده است Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت](/assets/img/Elsevier-Logo.png)
Stable reactive deposition of amorphous Al2O3 films with low residual stress and enhanced toughness using pulsed dc magnetron sputtering with very low duty cycle
Keywords: پلاسما پالس شده; Magnetron sputtering; Dielectric films; Discharge stability; Hysteresis; Pulsed plasmas; Optical films