کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
1681755 1518651 2016 4 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
K-shell X-ray production in Silicon (Z2 = 14) by (1 ⩽ Z1 ⩽ 53) slow ions
ترجمه فارسی عنوان
تولید اشعه X پوسته K در سیلیکون (Z2 = 14) توسط یون‌های آهسته (1 ≤ Z1 ≤ 53)
کلمات کلیدی
مقطع عرضی تولید اشعه ایکس ؛ مدل نیمه مولکولی؛ یونیزاسیون مستقیم؛ سرعت نزدیک به بور
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد سطوح، پوشش‌ها و فیلم‌ها
چکیده انگلیسی

K-shell X-ray emission of Silicon induced by near-Bohr-velocity ions was systematically investigated in collision systems for which the ratio of projectile-to-target atomic numbers (Z1/Z2) ranged from 0.07 to 3.79. The results show that, in asymmetric collisions, the measured K-shell X-ray production cross sections of Silicon fit very well with the predictions of different direct ionization models depending on the atomic number of projectile. In the case of near-symmetric collisions (Z1/Z2 ∼ 1), an obvious enhancement of the X-ray production cross section was observed, which can be attributed to the vacancy transfer within the framework of quasi-molecular model.

ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms - Volume 370, 1 March 2016, Pages 10–13
نویسندگان
, , , , , , , , , , , , ,