کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1681755 | 1518651 | 2016 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
K-shell X-ray production in Silicon (Z2 = 14) by (1 ⩽ Z1 ⩽ 53) slow ions
ترجمه فارسی عنوان
تولید اشعه X پوسته K در سیلیکون (Z2 = 14) توسط یونهای آهسته (1 ≤ Z1 ≤ 53)
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
مقطع عرضی تولید اشعه ایکس ؛ مدل نیمه مولکولی؛ یونیزاسیون مستقیم؛ سرعت نزدیک به بور
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
چکیده انگلیسی
K-shell X-ray emission of Silicon induced by near-Bohr-velocity ions was systematically investigated in collision systems for which the ratio of projectile-to-target atomic numbers (Z1/Z2) ranged from 0.07 to 3.79. The results show that, in asymmetric collisions, the measured K-shell X-ray production cross sections of Silicon fit very well with the predictions of different direct ionization models depending on the atomic number of projectile. In the case of near-symmetric collisions (Z1/Z2 ∼ 1), an obvious enhancement of the X-ray production cross section was observed, which can be attributed to the vacancy transfer within the framework of quasi-molecular model.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms - Volume 370, 1 March 2016, Pages 10–13
Journal: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms - Volume 370, 1 March 2016, Pages 10–13
نویسندگان
Yu Lei, Yongtao Zhao, Xianming Zhou, Rui Cheng, Xing Wang, Yuanbo Sun, Shidong Liu, Jieru Ren, Yuyu Wang, Xiaoan Zhang, Yaozong Li, Changhui Liang, Guoqing Xiao,