کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1683233 | 1010497 | 2008 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Ion fluence dependence of the Si sputtering yield by noble gas ion bombardment
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Ion fluence dependence of the Si sputtering yield by noble gas ion bombardment Ion fluence dependence of the Si sputtering yield by noble gas ion bombardment](/preview/png/1683233.png)
چکیده انگلیسی
The effect of sputtering yield enhancement by implantation of noble gases into solid silicon is investigated with the Monte Carlo program SDTrimSP. The process of diffusion is incorporated into the program to describe the outgassing of noble gases. The bombardment of Si with He, Ne, Ar, Xe at normal incidence is studied in the energy range from 1 to 500 keV. Good agreement of the calculated results with experimental data is found.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms - Volume 266, Issue 6, March 2008, Pages 872–876
Journal: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms - Volume 266, Issue 6, March 2008, Pages 872–876
نویسندگان
A. Mutzke, W. Eckstein,