کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1684631 | 1518764 | 2006 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Plasma implantation using high-energy ions and short high voltage pulses
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Plasma implantation using high-energy ions and short high voltage pulses Plasma implantation using high-energy ions and short high voltage pulses](/preview/png/1684631.png)
چکیده انگلیسی
The main objective of this paper is to describe the use of a high voltage pulser based on Blumlein technology for surface treatment by plasma immersion implantation. In particular, we will consider its potential application for nitriding polymer and Al surfaces. The Blumlein technique consists basically of charging several coaxial transmission in parallel and discharging them in series into a matched load by means of the closure of a thyratron switch at the generator input side.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms - Volume 242, Issues 1–2, January 2006, Pages 328–331
Journal: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms - Volume 242, Issues 1–2, January 2006, Pages 328–331
نویسندگان
J.O. Rossi, I.H. Tan, M. Ueda,