کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
1687900 1010693 2007 4 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A laser-cooled chromium atom beam for nanolithography
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد سطوح، پوشش‌ها و فیلم‌ها
پیش نمایش صفحه اول مقاله
A laser-cooled chromium atom beam for nanolithography
چکیده انگلیسی

We have used a high collimated neutral chromium atomic beam to write periodic nanometer-scale structures by depositing an atomic beam of 52Cr through an off-resonant laser standing wave with the wavelength of 425.55 nm onto a silicon substrate. The resulting nanolines exhibit a period of 215 ± 3 nm with a height of 1 nm, which was half the wavelength of standing wave used to write the grating.

ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms - Volume 256, Issue 2, March 2007, Pages 719–722
نویسندگان
, , ,