کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
1688773 1011189 2011 6 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Effect of electrode architecture and process parameters on distribution of SiH3 in a PECVD system
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد سطوح، پوشش‌ها و فیلم‌ها
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Effect of electrode architecture and process parameters on distribution of SiH3 in a PECVD system
چکیده انگلیسی
► Porous electrode with gas inlet at the bottom of chamber can improve SiH3 distribution. ► SiH3 mole fraction increases as electrode separation decreases and 10 mm is the optimal distance. ► 2.5 mm of the hole diameter on porous electrode is the best. ► The gas flow rate of 0.5 m/s is selected as the optimal process conditions.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 86, Issue 3, 8 October 2011, Pages 344-349
نویسندگان
, , , , , , ,