کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1688773 | 1011189 | 2011 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Effect of electrode architecture and process parameters on distribution of SiH3 in a PECVD system
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠Porous electrode with gas inlet at the bottom of chamber can improve SiH3 distribution. ⺠SiH3 mole fraction increases as electrode separation decreases and 10 mm is the optimal distance. ⺠2.5 mm of the hole diameter on porous electrode is the best. ⺠The gas flow rate of 0.5 m/s is selected as the optimal process conditions.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 86, Issue 3, 8 October 2011, Pages 344-349
Journal: Vacuum - Volume 86, Issue 3, 8 October 2011, Pages 344-349
نویسندگان
Jianning Ding, Yazhi Zhao, Ningyi Yuan, Mingming Chen, Shubo Wang, Feng Ye, Biao Kan,