کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1688934 | 1011201 | 2012 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Influence of growth parameters on the microstructures of erbium films deposited on Si(111) substrates
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠We have grown erbium films on single crystal Si at different deposition conditions. ⺠The microstructures of erbium films on Si are susceptible to substrate temperature. ⺠The triangular pinholes appear on film surface at temperature higher than 350 °C. ⺠The shape of pinhole is conforming to geometry of the underlying Si(111) substrate. ⺠The deposition time can affect the reaction of erbium film and Silicon substrate.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 86, Issue 12, 20 July 2012, Pages 2075-2081
Journal: Vacuum - Volume 86, Issue 12, 20 July 2012, Pages 2075-2081
نویسندگان
H.H. Shen, S.M. Peng, X.G. Long, X.S. Zhou, J.H. Liu, K. Sun, L. Yang, Q.Q. Sun, X.T. Zu,