کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1689473 | 1011230 | 2007 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Optical and electrical properties of TiOx thin films deposited by electron beam evaporation
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The TiOx thin films were prepared by electron beam evaporation using TiO as the starting material. The effect of the annealing temperature on the optical and electrical properties was investigated. The spectra of X-ray photoelectron spectroscopy reveal that Ti in the films mainly exist in the forms of Ti2+ and Ti3+ below 400 °C 24 h annealing. The charge transfer between different titanium ion contribute greatly to the color, absorption, and electrical resistance of the films.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 81, Issue 9, 25 May 2007, Pages 1023–1028
Journal: Vacuum - Volume 81, Issue 9, 25 May 2007, Pages 1023–1028
نویسندگان
Jianke Yao, Jianda Shao, Hongbo He, Zhengxiu Fan,