کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1690368 | 1518980 | 2013 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Magnetic properties of manganese implanted silicon after pulse plasma annealing
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Silicon samples were implanted with up to 6E+16 cm−2 of 190 keV manganese and next treated with plasma pulses of duration about 1 μs and energy density up to 4 J cm−2. Channelled RBS spectra measured after pulse treatment reveal nearly perfect recovery of crystalline order with manganese segregated towards the surface and occupying non-substitutional positions. SQUID magnetization measurements show the formation of paramagnetic phase of concentration increasing with the applied manganese fluence.
► Silicon samples were implanted with manganese and annealed by plasma pulses.
► They show good crystallinity, and non-substitutional location of manganese atoms.
► The presence of paramagnetic phase growing with the implant fluence is revealed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 89, March 2013, Pages 113–117
Journal: Vacuum - Volume 89, March 2013, Pages 113–117
نویسندگان
Z. Werner, C. Pochrybniak, M. Barlak, J. Gosk, J. Szczytko, A. Twardowski, A. Siwek,