کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1690705 | 1011273 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Study of initial stages of thin film growth by means of atomistic computer simulation and image analysis
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠The atomistic model of film growth can produce realistic results. ⺠The molecular-dynamics part of the atomistic model increases its applicability. ⺠The image analysis is a source of valuable data in thin film physics. ⺠The best suited methods are the Voronoi tessellation and the Quadrat Counts.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 86, Issue 9, 14 March 2012, Pages 1223-1227
Journal: Vacuum - Volume 86, Issue 9, 14 March 2012, Pages 1223-1227
نویسندگان
Rudolf Hrach, DuÅ¡an Novotný, VojtÄch Hrubý,