کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1690764 | 1011275 | 2010 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Properties of super-hard carbon films deposited by pulsed arc process
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Properties of super-hard carbon films deposited by pulsed arc process Properties of super-hard carbon films deposited by pulsed arc process](/preview/png/1690764.png)
چکیده انگلیسی
The pulsed vacuum arc discharge (pulsed arc) is the most efficient PVD-technology for the deposition of super-hard carbon films on tools and machinery parts. Using the pulsed arc discharge a stable evaporation process of carbon and an efficient deposition of hydrogen-free ta-C type films is possible. In this paper, important properties of such ta-C films and their process conditions are explained. The films were characterized by hardness measurements using nanoindentation, friction and wear properties using oscillating sliding tests, and structural analysis using Raman spectroscopy.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 85, Issue 4, 21 October 2010, Pages 506–509
Journal: Vacuum - Volume 85, Issue 4, 21 October 2010, Pages 506–509
نویسندگان
Werner Grimm, Volker Weihnacht,