کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1690818 | 1011278 | 2011 | 9 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Effects of bias voltage and gas pressure on orientation and microstructure of iridium coating by double glow plasma
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠Microstructure of Ir coating was affected by bias voltage and gas pressure. ⺠Bias voltages had a significant impact on the orientation of the coating. ⺠The increasing bias voltages caused high substrate temperature and deposition rate. ⺠Morphology and orientation of the coating were changed due to the coating thickness.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 86, Issue 4, 11 November 2011, Pages 429-437
Journal: Vacuum - Volume 86, Issue 4, 11 November 2011, Pages 429-437
نویسندگان
Wangping Wu, Zhaofeng Chen, Xin Lin, Binbin Li, Xiangna Cong,