کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1691321 | 1011308 | 2008 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Studies of medium frequency high power density magnetron sputtering discharges
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Optical emission spectroscopy and Langmuir probe have been used to study the power dependence of medium frequency, 100 kHz, pulsed magnetron sputtering discharge. Copper target was sputtered in the argon atmosphere. The examined power ranged from 0.5 to 4.5 kW which gave an average power density on target surface from 25 to 115 W/cm2. Optical spectroscopy did not reveal any significant changes of copper ion contribution to the sputtering process. The electron temperature and plasma potential changed a little with applied power. The electron density depended linearly on the sputtering power.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 82, Issue 10, 3 June 2008, Pages 1124–1127
Journal: Vacuum - Volume 82, Issue 10, 3 June 2008, Pages 1124–1127
نویسندگان
Andrzej Brudnik, Adam Czapla, Witold Posadowski,