کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1691531 | 1011319 | 2009 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Fe and Ti cathodes sputtering by oxygen plasma in DC glow discharges
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Sputtering yields of iron and titanium cathodes have been measured over wide ranges: (0.1 < p < 0.373 mbar) and (0.25 < jd < 1 mA/cm2) of oxygen pressure (p) and current density (jd) of the O2/Fe discharge. The effective sputtering yields Yefs run from 0.0017 up to 0.136 [AFe/AO]. These yields are very low if compared with those characteristic of other discharge sets. The Monte-Carlo modelling of the oxygen plasma-metallic cathode interface allows the explanation of the effect of plasma characteristics on these yields and a stoichiometry of the cathode subsurface layer. High oxidation of subsurface cathode layer, redeposition of sputtered atoms and non-volatile character of metal oxides are main reasons for low values of effective sputtering yields as well as their dependence on working gas pressure.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 83, Supplement 1, 1 May 2009, Pages S77-S80
Journal: Vacuum - Volume 83, Supplement 1, 1 May 2009, Pages S77-S80
نویسندگان
Z. WroÅski, J. Filiks,