کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1691804 | 1011337 | 2008 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Ion sputtering of cathode surface in a hollow cathode discharge
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
سطوح، پوششها و فیلمها
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
In this paper, ion sputtering of cathode material in a specific type of glow discharge—hollow cathode discharge (HCD)—is analyzed. To estimate both real sputtering yield and screening effect of the buffer gas, two different methods—combination of experimental and analytical approach (applicable for Ar buffer gas only) and use of Monte Carlo simulations—are used. The latter, which is introduced for the first time here, can be used for any buffer gas. Real sputtering yield Sk is estimated by Monte Carlo simulations for several commercial HCD lamps with Ne buffer gas: Ne–Li (0.046), Ne–As (0.862), Ne–Ca (0.337) and Ne–Cd (1.069).
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Vacuum - Volume 82, Issue 5, 8 January 2008, Pages 455–458
Journal: Vacuum - Volume 82, Issue 5, 8 January 2008, Pages 455–458
نویسندگان
Nely Bundaleska, Zoritsa Tomova, Vasilka Steflekova, Dimo Zhechev,