کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1787021 | 1023429 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Photocatalytic TiO2 thin films deposited on flexible substrates by radio frequency (RF) reactive magnetron sputtering
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠Taguchi's method was a feasibility tool to study the performance of the TiO2 deposition process. ⺠RF power has the greatest effect on MB photodecomposition. ⺠The RF power increases will result in an improvement of film crystalline structure. ⺠Increasing sputtering power contributed to increased crystallite size and higher surface roughness for the Ti thin films.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Current Applied Physics - Volume 12, Issue 1, January 2012, Pages 179-183
Journal: Current Applied Physics - Volume 12, Issue 1, January 2012, Pages 179-183
نویسندگان
D.Y. Chen, C.C. Tsao, C.Y. Hsu,