کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1787977 | 1023457 | 2006 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A comparison of near-field lithography and planar lens lithography
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The resolution of a near-field lithography technique that uses a planar silver lens to form a near-field image has been investigated and compared with hard-contact lithography. Sub-diffraction-limited imaging has been observed through a 50Â nm silver film, confirming a recent superlensing proposal [J.B. Pendry, Phys. Rev. Lett. 85 (2000) 3966], with grating periods down to 170Â nm pitch being patterned into resist using simple broadband UV-illumination.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Current Applied Physics - Volume 6, Issue 3, June 2006, Pages 415-418
Journal: Current Applied Physics - Volume 6, Issue 3, June 2006, Pages 415-418
نویسندگان
D.O.S. Melville, R.J. Blaikie, M.M. Alkaisi,