کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
182670 | 459436 | 2006 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Synthesis of silicon carbide nitride nanocomposite films by a simple electrochemical method
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی شیمی
مهندسی شیمی (عمومی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Silicon carbide nitride (SiCN) nanocomposite films have been deposited on silicon substrates by using of a simple electrochemical method from a methanol solution of hexamethyldisilazane ((CH3)3-Si-NH-Si-(CH3)3, HMDSN) at atmospheric pressure and low temperature. The electrodeposited composite films were characterized by XPS, FTIR, XRD, and AFM, respectively. As the results, the films are amorphous carbon films containing β-Si3N4, α-Si3N4, and SiC crystalline grains. The introduction of HMDSN contributes to promote the growth of the carbon films and leads to the formation of the Si3N4 and SiC crystalline grains.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Electrochemistry Communications - Volume 8, Issue 5, May 2006, Pages 737–740
Journal: Electrochemistry Communications - Volume 8, Issue 5, May 2006, Pages 737–740
نویسندگان
X.B. Yan, B.K. Tay, G. Chen, S.R. Yang,