کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1828274 | 1526480 | 2009 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Visualization of the development process in deep X-ray lithography
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
ابزار دقیق
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Visualization of the development process in deep X-ray lithography Visualization of the development process in deep X-ray lithography](/preview/png/1828274.png)
چکیده انگلیسی
In this work the contour visualization method of developed high aspect ratio microstructures with any lateral size of ∼1 μm in thick PMMA layers using normal and tilted SR exposure is proposed in order to investigate the microstructures behaviour and the development process. This method can be also applied in situ during the development process.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A: Accelerators, Spectrometers, Detectors and Associated Equipment - Volume 603, Issues 1–2, 11 May 2009, Pages 153–156
Journal: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A: Accelerators, Spectrometers, Detectors and Associated Equipment - Volume 603, Issues 1–2, 11 May 2009, Pages 153–156
نویسندگان
V. Nazmov, J. Mohr, E. Reznikova,