کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
5023743 1470265 2017 35 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Multi-objective optimization of tungsten CMP slurry for advanced semiconductor manufacturing using a response surface methodology
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه سایر رشته های مهندسی مهندسی (عمومی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Multi-objective optimization of tungsten CMP slurry for advanced semiconductor manufacturing using a response surface methodology
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Materials & Design - Volume 117, 5 March 2017, Pages 131-138
نویسندگان
, , , , , , ,