کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5346876 | 1503551 | 2017 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Initial and steady-state Ru growth by atomic layer deposition studied by in situ Angle Resolved X-ray Photoelectron Spectroscopy
ترجمه فارسی عنوان
رشد الکتریکی اولیه و پایدار با اتمسفر لایه اتمی که در محل انکسار مورد بررسی قرار گرفته است
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
شیمی
شیمی تئوریک و عملی
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 419, 15 October 2017, Pages 107-113
Journal: Applied Surface Science - Volume 419, 15 October 2017, Pages 107-113
نویسندگان
Konstantin V. Egorov, Yury Yu. Lebedinskii, Anatoly A. Soloviev, Anastasia A. Chouprik, Alexander Yu. Azarov, Andrey M. Markeev,