دانلود رایگان مقاله ISI : اتصال الکترون-یون و انتشار مضر در پلاسمای الکترونی سوراخ در سیلیس های نازک آمورف سیلیکاتی که توسط یک قطعه لیزر فوق العاده سریع وابسته به پالس عرض تعبیه شده اند

Electron-ion coupling and ambipolar diffusion in dense electron-hole plasma in thin amorphous Si films studied by single-shot, pulse-width dependent ultrafast laser ablation

Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Applied Surface Science - Volume 425, 15 December 2017, Pages 170-175

Pavel Danilov, Andrey Ionin, Roman Khmelnitskii, Irina Kiseleva, Sergey Kudryashov, Nikolay Mel'nik, Andrey Rudenko, Nikita Smirnov, Dmitry Zayarny,